通过上游压力控制提高真空沉积速度和稳定性
上游压力控制为真空沉积装置提供了许多好处。调节真空室上游的压力无需额外的阀门，从而降低设备成本并最大限度地减少潜在的泄漏点。快速作用的比例控制阀还提高了沉积速度和稳定性。
挑战：传统的下游压力设置速度慢、成本高，而且升级起来很麻烦
真空沉积装置传统上使用下游压力控制，但由于多种原因，这是有问题的。这些设置：
- 使用昂贵的节流阀
- 改变气流或等待室内气体稳定时会出现延迟
- 需要单独的控制模块为阀门供电、提供 PID 数据并控制压力控制器的设定值
升级系统也存在问题，因为更换旧设备可能很困难。最好使用可以轻松插入的设备来升级系统，而无需重新设计主要系统。
解决方案：使用易于集成的上游压力控制器最大限度地减少压力波动
PC-EXTSEN压力控制器旨在顺利集成到您现有的系统中，无需任何其他设计更改。该设备安装在真空室的上游，并使用外部传感器（例如现有的真空计）来控制真空水平。压力控制器还可以使用串行或模拟通信或工业协议（例如 EtherCAT）在通用控制接口上进行标准化并连接到该接口。
Alicat 压力控制器将腔室压力精确地保持在所需水平。
当工艺需要高真空或超高真空且需要外部压力表时，该压力控制器最有用。PC-EXTSEN 从仪表获取模拟信号，并使用比例阀提供闭环控制。它为外部真空计供电，并与所有真空计技术兼容，包括离子真空计、皮拉尼真空计和冷阴极真空计，以及有源或无源真空计和组合真空计。
快至 30 ms 的快速响应时间和高达满量程 ±0.08% 的高重复性共同防止对系统压力的干扰，并实现高度一致的真空镀膜。
使用 IVC 系列集成真空控制器消除节流阀体积
带集成真空传感器的 IVC 系列压力控制器
将此外部压力传感器与真空计结合使用，即使在改变或调整流入的气体时，您也可以最准确地保持真空室压力。这样可以更快地应用中性气体，并通过稳定的压力整体改进系统控制涂层环境中的含量。
对于没有现有真空计的设置，IVC 系列压力控制器无需真空计。IVC 系列直接集成了高精度真空传感器，可实现低至 0.01 毫托的可靠控制。与 PC-EXTSEN 类似，该设备能够减少传统节流阀压力控制方法的体积、复杂性和费用。
这些压力控制器还可以配置气动隔离传感器，该传感器可以直接连接到真空室中。无论流动气体的成分如何，该传感器都可以精确测量真空室。
结论
艾里卡特应用工程师始终推荐薄膜沉积应用的上游压力控制。根据您的设置参数以及您是否希望设计带有或不带有外部真空计，PC-EXTSEN 或 IVC 系列压力控制器可能更有利。
带有外部传感器的压力控制器能够直接集成仪表信号，同时提供上游控制。带有集成真空传感器的压力控制器是简单的解决方案，设置中需要的设备较少。
无论哪种情况，在真空镀膜应用中将压力控制装置放置在腔室上游都可以节省时间和成本，并提高真空沉积工具的精度。